瑞典林雪平大学的研究人员提出一种中子镜改进方法,可提高中子源的材料分析效率,并已应用于位于瑞典隆德的欧洲散裂源(ESS)。相关研究结果发表在期刊《Science Advances》上。
研究人员通过磁控溅射工艺,在中子镜的硅基板上涂覆掺有碳化硼的铁和硅多层薄膜,形成非晶化和光滑界面,从而实现更高的中子反射率、更少的漫散射和更高的偏振,同时磁矫顽力被消除,可在低外部磁场下达到磁饱和。这种改进中子光学的方法有效地增加了欧洲散裂源的中子数量,提高了数据精度,为物理、化学、生物学和医学等学科的开创性实验和突破性发现提供了机会。
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